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　　一纸禁令，一场围堵，美荷两国以为能将中国半导体产业扼杀在摇篮中，这两个国家可以说是步步紧逼，不仅禁运先进设备，甚至妄图让已售设备沦为“废铁”。

　　首先得明白，这场针对中国半导体的限制，绝不是荷兰一时兴起的单方面行动，背后藏着的是美国。

　　在美国国会的听证会上，官员们反复强调这关乎“国家安全”，将技术竞争上升到了战略对抗的高度。

　　这种论调之下，美国与荷兰的步调显得异常一致，一场精密的协同行动就此展开。

　　2023年3月，荷兰首次对外宣布了新的出口管制意向，没过几个月，同年6月30日，详细规则出台，并于9月1日正式生效。

　　目标非常明确，就是全球光刻机巨头ASML生产的先进深紫外（DUV）浸没式光刻系统。

　　但事情没那么简单，除了禁运新设备，他们还将目标放在了那些已经在中国产线月，美国将管制范围扩大到了相关的软件和技术服务。

　　这招非常狠，意图就是让这些价值不菲的设备随着时间推移，慢慢变成一堆无法运转的“废铁”。

　　西方智库的报告和官员的言论，开始巧妙地质疑中国技术突破的“自主性”，频频暗示可能存在“逆向工程”，或是拿知识产权和专利体系说事。

　　这种应激反应，成了一剂强效催化剂，迫使中国从一个单纯的“世界工厂”和“最大买家”，转向构建一个完整的、独立的半导体生态。

　　终于在2023年初，他们成功推出了一款名为SSA600系列的深紫外光刻机。

　　这款设备，虽然还无法与ASML最顶尖的产品媲美，但其战略意义极其重大。

　　它支持28纳米制程工艺，采用了193纳米波长的激光源和数值孔径为1.35的浸没式镜头。

　　它的性能指标也相当扎实，处理晶圆的效率超过每小时100片，并且通过了长时间运行的稳定性测试。

　　从光刻胶到掩膜版，这些过去严重依赖进口的配套材料和环节，也都在加速国产化的进程。

　　甚至有计划利用现有的DUV设备，通过多重曝光等技术手段，去尝试冲击更先进的7纳米节点。

　　旨在维护技术霸权的围堵，因为它忽视了中国作为全球最大消费市场的巨大引力，最终触发了对发起者自身的经济反噬。

　　而荷兰的ASML，作为全球光刻机领域的绝对霸主，其DUV市场份额超过70%，在整个高端市场的总份额更是高达90%左右。这样两方，本是天作之合。

　　出口管制直接导致了ASML对华销售额的显著下降，有数据显示其年销售量一度因此滑落了20%。

　　阿姆斯特丹的处境变得非常尴尬，一边是盟友美国的政治高压，另一边是无法割舍的巨大商业利益。

　　有消息推测，荷兰曾试图摆脱美国的影响，私下表达了希望自主决策的意愿，甚至邀请中方进行谈判。

　　在经历了长达几十年的技术围堵，尤其是在1990年代就已经尝过被封锁的滋味后，技术自主权在中国看来，早已是不可交易的核心利益。

　　这一回合的交锋，恰恰印证了封锁悖论的核心：外部压力越大，内部自研的决心就越不可动摇。

　　当中国自己的光刻机开始进入市场，即便技术尚有差距，但其低于进口产品的定价，已经吸引了不少国内中小型芯片代工厂的目光。

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